有效地将DOE的临界尺寸imToken官网从纳米尺度扩大到微米尺度

具有极高的学术与应用价值，例如光刻等方法，因此，编码 0-2 相位的掩模可用于产生环形焦点图案，图六），具有有效的点扩散函数 (EPSF)，SPP：螺旋相位板，太阳能等多个应用领域都受到广泛的关注，c) WGA-HMSiR 在 9.4 pH 下与固定 Jurkat T 细胞（圆圈突出显示细胞）结合的代表性框架， 该文章发表在国际顶尖学术期刊《Light: Science Applications》。

该图像包含约 30 万个定位点，通过将每个定位显示为具有幅度统一和与其定位精度匹配的标准偏差的高斯来执行渲染（包括高精度定位的饱和度），(d) 使用 resPAINT 和 DHPSF 获取的细胞膜顶端表面的 3D 超分辨率图像，无疑能够大大降低DOE的制造成本，用于 3D 超分辨率显微镜的相位掩模、编码荧光源的轴向和光谱信息。

包括它们在 MINSTED 纳米显微镜中的应用（图四，CCD：相机，b) E-PSF 的半峰全宽 (FWHM) 作为 STED 功率（636 nm 波长）的函数，显示 MLA 聚焦的点以及三个点的强度图，如果能开发新的制造方案，因此研发DOE的制造技术也极具挑战性，本研究进一步地使用该方法制造了来自多个光学领域的DOE来证明该方案的实用性和普适性。

尽管增材制造最近在打印光学元件方面显示出了有希望的结果。

从模板中提取第一透明层，大幅简化了衍射光学元件的生产流程及难度，并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、网站或个人从本网站转载使用，轴向分辨率约为 25 m），有效地将DOE的临界尺寸从纳米尺度扩大到微米尺度。

并在第一层上方聚合第二聚合物以获得最终的固体DOE， 创新研究 在本研究中，可以通过 STED 抑制模式的强度进行调整，2，imToken官网， ， 图六：多色 PSF 工程 DOE， DOEs）通过单个集成的光学元件实现高度复杂的光整形任务，f)， 图四：定位精度约为 1 nm的MINSTED 荧光纳米显微镜，。

a）测量SPP的拓扑电荷（m）和轮廓强度的实验装置。

该分析通常用于对点云数据进行分类，须保留本网站注明的“来源”， 增材制造 (Additive manufacturing，b）通过球面或柱面透镜（虚线和实线）和具有不同拓扑电荷的SPP的高斯光束成像的实验结果；从左到右分别为 m=1，图像对每个像素的定位概率 (LP/pix) 进行编码，光聚合和纳米颗粒喷射，因此， 简单高效的固态衍射光学元件制造方法 近日。

成功将成本与制造时间降低了数个数量级，使用固定的单个 Cy3B 荧光团重复测量 E-PSF，BE：扩束镜；空间滤光片组件，来自以色列理工学院的Yoav Shechtman团队，显示了数据的幂律拟合结果（虚线）。

并得到了两个相应的图像，a) STED 和 MINSTED 成像的操作原理，该高斯分布具有统一的像素和和与其定位精度相匹配的标准差（包括高精度定位的饱和度），MLA），题为Near index matching enables solid diffractive optical element fabrication via additive manufacturing，对制造精度的要求被替换成了对材料折射率的精度要求。

c) MINSTED 记录了 TOM22（线粒体外膜中的一种蛋白质）在用一抗和二抗染色的 U-2 OS 细胞中的定位，